集成电路布图设计专有权是一项独立的知识产权,是权利持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。
1、主体资格:中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权;外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权;外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。
2、客体条件:合格的客体必须是具有独创性的布图设计。
3、方式与程序:
(1)方式:自然取得、登记取得、使用与登记取得。(我国实行登记制度)
(2)程序(我国):申请、初审、登记并公告、对驳回申请的复审、登记的撤销。
1、内容:(布图设计权的权能)不包括精神权利
布图设计权:指权利的持有人对于权利的客体所能够行使的权利。
(1)复制权:即专有权人有权通过光学的、电子学的方式或其他方式来复制其受保护的布图设计。
(2)商业利用权:即专有权人享有将受保护的布图设计以及含有该布图设计的集成电路或含有此种集成电路的产品进行商业利用的权利。
2、布图设计权的行使:三种形式
(1)自己对布图设计进行复制或商业利用。
(2)将布图设计权转让给他人所有。
(3)许可他人对布图设计进行复制和商业利用。
1、保护期限:
布图设计保护期为10年,自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准,但无论是否登记或投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受《集成电路布图设计保护条例》保护。
2、侵权责任及制止措施:
(1)民事责任:侵权行为人须立即停止侵权行为,并承担赔偿责任。赔偿数额为侵权人所获得的利益或被侵权人所受到的损失,包括被侵权人为制止侵权行为所支付合理开支。
(2)行政责任:责令停止侵权行为,没收、销毁侵权产品或物品。
(3)即发侵权的制止:布图设计权利人或利害关系人有证据证明他人正在实施或即将实施侵犯其专有权的行为,如不及时制止将会使其合法权益受到难以弥补的损害,可在起诉前依法向法院申请采取责令停止有关行为和财产保全的措施。
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